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矩形传输阀的产品介绍
矩形传输阀的产品介绍

矩形传输阀的产品介绍日扬科技真空矩形阀由日扬自主设计和生产制造,作为一款真空系统密封零部件,它拥有zhuoyue的操作性能、高耐用性、低振动和高洁净度等优点。规格参数:阀门采用气动驱动模式,开启/关闭的最快时间不超过1s,阀体开口尺寸可按客户需求定制。当阀门开启时,压力差值小于10mbar,阀门内部轴密封采用波纹管,阀体材料可以选择不锈钢或者铝合金材质,表面可以做电解抛光或者硬质阳极氧化处理。应用...

2024-06-11
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  • 真空开关的简述与性能

    真空开关:控制管路或某封闭空间的真空度的开关。真空开关,为纯机械形变导致微动开关动作。当压力增加时,真空开关作用在不同的传感压力元器件(膜片、波纹管、活塞)产生形变,将向上移动,通过栏杆弹簧等机械结构,zui终启动zui上端的微动开关,使电信号输出。机械压力开关设定方式从功能原理上均为连续位移型,设定点可单点设定并zui多可达到3个不同的设定点UE100系列真空压力开关

    20111-20
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  • 隔膜真空泵的概述

    隔膜真空泵,设计先进,工作效率高,使用寿命长,是集高新技术于一体的换代产品。主要应用于医疗医药产品分析、精细化工、生化制药、食品检验、*刑侦技术等领域,是为其精密色谱仪器配套的产品,也是实验室*的装备之一。采用铝合金压铸,防腐喷涂喷塑而成,轻巧美观,适用范围广,气室采用特氟伦处理,耐腐蚀程度高,可满足各类工作环境的要求。

    20111-20
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  • SQC-310晶控中文说明书

    为了让大家更好的了解SQC-310晶控,给使用者更多的方便,公司提供了SQC-310的中文说明书。

    20111-6
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  • 磁控溅射靶的磁场排布分析

    近几十年来,磁控溅射技术已经成为zui重要的沉积镀膜方法之一。广泛应用于工业生产和科学研究领域。如在现代机械加工工业中,利用磁控溅射技术在工件表面镀制功能膜、超硬膜、自润滑薄膜。在光学领域,利用磁控溅射技术制备增透膜、低辐射膜和透明导膜,隔热膜等。在微电子领域和光、磁记录领域磁控溅射技术也发挥着重要作用。然而磁控溅射技术也有其自身的不足,如靶材利用率低、沉积速率低和离化率低等缺点。其中靶材利用率是由于靶面跑道的存在,使等离子体约束于靶面的局部区域,造成靶材的区域性溅射。跑道的...

    201012-13
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  • 脉冲电源

    脉冲电源:impulsingpowersource用户的负载需要断续加电,即按照一定的时间规律,向负载加电一定的时间,然后又断电一定的时间,通断一次形成一个周期。如此反复执行,便构成脉冲电源。例如对于无极性电解电容器的老练工艺中,需要给电容器正向充电一段时间,然后放电,然后反向给电容器充电一段时间,然后放电,如此便形成正向→放电(断电)→反向→放电→正向……,如此反复。[编辑本段]脉冲电源技术的基本工作原理首先经过慢储能,使初级能源具有足够的能量;然后向中间储能和脉冲成形系统...

    201010-14
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  • P3000检漏仪说明书

    P3000是专业用于生产环境下的全时性吸枪检漏。为冰箱,冷柜,空调器,制冷元件和类似产品的装配和中间生产测试提供高生产效率与可靠性。此文章为P3000的中文说明书。

    20109-21
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  • UL1000检漏仪说明书

    INFICON公司的UL1000检漏仪是一款操作方便,故障率低,非常成熟的产品。

    20103-31
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  • 中空玻璃

    中空玻璃北玻中空玻璃采用进口中空生产线,铝条自动折弯,使整块玻璃仅有一个接口(正常尺寸玻璃);采用自动封闭分子筛灌装系统,立式合片、立式自动打胶,从工艺上保证了中空玻璃的生产。与普通中空玻璃相比,打胶均匀、胶层中无气泡藏匿,具有可靠的密封性能。同时外观指标也明显高于普通中空玻璃生产线生产的产品。北玻公司生产的中空玻璃露点等各项指标均优于国家标准。zui大规格(Max.Size):2500mm×3500mmzui小规格(Min.Size):250mm×300mmv经典弯钢化玻璃...

    20101-18
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  • 真空溅射技术

    《真空溅射技术》*章溅射技术²所谓“溅射”就是用荷能粒子(通常用气体正离子)轰击物体,从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象。²1842年Grove(格洛夫)在实验室中发现了这种现象。²1877年美国贝尔实验室及西屋电气公司首先开始应用溅射原理制备薄膜。²1966年美国商用电子计算机公司应用高频溅射技术制成了绝缘膜。²1970年磁控溅射技术及其装置出现,它以“高速”、“低温”两大特点使薄膜工艺发生了深刻变化,不但满足薄膜工艺越来越复杂的要求,而且促进了新工艺的发展。²我国在1...

    200912-10
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  • 溅射的原理

    主要利用辉光放电(glowdischarge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,靶材的原子被弹出而堆积在基板(substrate)表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的氩气离子化,造成靶与氩气离子间的撞击机率增加,提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glowdischarg...

    200912-8
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  • SQC-310晶控介绍

    zui普及的多层镀膜测厚仪

    200910-20
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  • 金刚石薄膜的发展,制备及应用

    简要介绍了金刚石薄膜的发展,总结了金刚石薄膜的几种主要制作工艺,并对各种工艺的优,缺点进行了分析.结合对金刚石应用的讨论,阐述了金刚石薄膜在工业领域中的应用前景和发展趋势.

    20099-16
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